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日本尼康Nikon工業顯微鏡

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工業顯微鏡 LV150N/LV150NL/LV150NA 

新的光學系統令 ECLIPSE煥發新風采 

ECLIPSE 顯微鏡機身採用模塊化製造,可滿足多領域的工業應用,其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具製造等。 
ECLIPSE LV
系列經過不斷的發展完善並配備了新的光學系統和功能,可根據觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。 
用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射/透射組合照明模式以滿足任何應用需求。 

CFI60-2 經過改進的光學性能 

以獨特的高數值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康 CFI60 光學系統

經過進一步改進,具有一流 的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。 

輕鬆的操作 與數碼相機集成 

現可使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息,以及對顯微鏡進行電動操作,以更高效地進行觀察和圖像拍攝.