攝像頭模組清洗機CMC-800
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機器簡介：
CMC-800是攝像頭模組專業清洗機，用於攝像頭類產品，如wafer，CMOS, Holder等表面微塵清洗。
機器特點：
1、攝像頭類模組類產品表麵粉塵，雜質專用清洗機器；
2、鏡面鏽鋼一體化封閉機身，對工作環境無污染，適合無塵車間使用要求；
3、可更換清洗盤清洗多種產品，清洗盤按產品定做；
4、PLC自動控制，操作方便快捷；
5、透明防爆前門，安全作業，便於觀察；
6、全系統儀表顯示，隨時監控清洗狀況；
7、採用二流體清洗，清洗精度高，對產品零損傷，純水消耗量極小；
8、旋轉式噴桿，避免二次污染產品；
9、配備靜電消除裝置、腔壁加熱裝置，輔助清洗達到最佳效果；
10、配備2級空氣過濾系統，壓縮空氣符合ISO8573、1標準；
11、機身緊湊，佔用面積小；
12、完全使用超純水清洗，符合RoHS標準。
機器規格：
設備外觀尺寸
880mm（L）×960mm（W）×1880mm（H）
清洗盤規格
定制（清洗盤直徑＜ø550mm)
清洗方式
二流體清洗
乾燥方式
高速離心甩乾
電源供應
AC380V 50HZ
總功率
7KW
耗電量
清洗時: 3.5kw/h
待機時: 1kw/h
傳動馬力
3HP
環境過濾方式
0.3μm；99.999%
空氣過濾方式
1μm×1；0.01μm×1
離心轉速
100-1500RPM
純水消耗量
0-7L/Min
氣體消耗量
10-30m³/H
清洗壓力
液體壓力：3-8Kgf/cm² 空氣壓力：0.2-0.5Mpa
DI水供應
流量：＞7LPM 電阻率：＞17MΩ
氣源供應
壓力：0.45-0.7Mpa；流量：＞30m³/H（潔淨度符合清洗要求）
純水入口徑
ø12mm軟管或PT1/2″內螺紋
氣源入口徑
ø12mm氣管
排水出口徑
PT 1″內螺紋
排氣口口徑
4″×2（需加強抽風,風速大於3m/sec）
機器淨重
450KG
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